项目信息

项目名称：高真空磁控溅射镀膜设备

项目编号：XF-WSBX-******

公告开始日期：2025-04-15 11:04:22

公告截止日期：2025-04-22 13:00:00

******大学

付款方式：货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额

联系人：中标后在我参与的项目中查看

联系电话：中标后在我参与的项目中查看

签约时间要求：成交后3个工作日内

到货时间要求：成交后120个工作日内

预算：￥495000.00

收货地址：玉泉校区第十教学楼二楼

供应商资质要求：符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

公告说明：

采购清单

采购商品：高真空磁控溅射镀膜设备

采购数量：1

计量单位：台

所属分类：真空应用设备

预算：￥495000.00

技术参数及配置要求：1、溅射真空室腔体:1套
1)外形：优质304不锈钢D形真空室腔体1套，内部尺寸D450×450mm，后门采用铰链式刀口法兰，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，配视窗1套，前门采用横拉方门，配视窗1套；
2)底部：2英寸磁控靶（美国科特莱思科）接口3套,清洗接口1套，照明接口2套，预留分子泵接口1套，；
3)顶部：样品台接口1套，气动挡板接口1套；
4)侧壁：预留法兰若干；
5)腔体漏率：整体漏率优于5×10-10Pa.m^3/S，保压12小时，压强小于10Pa。
2、磁控溅射系统：1套
1)磁控靶：2英寸普磁靶（美国科特莱思科）3套，靶材2英寸，靶头可摆动调节溅射角度，靶头内部水冷；
2)清洗：基片清洗1套，可摆动调节；
3)靶挡板：各溅射靶配独立挡板，以保证镀膜的工艺性（预溅射、单层膜、多层膜、掺杂膜等镀膜防止交叉污染和干扰等）；
4)射频电源1台：500W，自动匹配；
5)直流电源3台：500W。
3、样品台系统：1套
1)基片旋转：采用磁流体密封，保证密封可靠性，转速0～20转／分，通过触摸屏控制连续可调；
2)基片升降：衬底与靶材间距80-150mm，电动升降，通过触摸屏控制连续可调；
3)基片挂架：采用水冷台，接入冷水机冷水，承载15*15mm基片16片；
4)基片挡板：采用磁流体密封，在基片旋转的任意角度均可挡住或打开，通过软件控制，旋转开关，速度平稳。
4、配气系统：1套（2路工艺气体流量控制，如Ar，N2等）
1)质量流量控制器2套；
2)高真空气动挡板阀1台；
3)φ6电磁截止阀2套；
4)φ6不锈钢管路1套。
5、设备机架：1套
1)40碳钢方管焊接机架1套，表面喷塑；
2)3英寸万向轮4件，移动调整；
3)地脚4件，锁紧定位。
6、电控系统：1套（电气控制采用设备机架和电控柜内置）
1)烘烤照明电源：1台；
2)总控制电源（配10英寸触摸屏，控制器，控制样品台，磁控靶挡板，泵阀开关、相序检测，以及电缆开关接头等）：1台；
7、其他技术参数：
1)缺相保护、误操作保护，联动互锁以及一键真空启停等功能；
2)供电：～220V单相供电系统（峰值4KW）；
3)供水：循环制冷水机，冷却水温度20℃～35℃，工作环境温度：10℃～40℃；
4)供气：小型无油静音气泵，提供0.2-0.3MPa气压，驱动气动阀门；
5)真空室极限真空：优于8×10^-7Pa，大气至6×10^-4Pa时间优于40分钟（充干燥氮气）。

售后服务：服务网点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:3年;服务时限:报修后8小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;在设备交付两年内免费提供一次搬迁服务。服务内容包括设备分拆，设备指导包装，运输；设备在新场地的组装和调试。;